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소비전력과 정보밀도를 획기적으로 
개선할 수 있는 차세대 반도체 소재 개발
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페로브스카이트 재료에서 선택적 산소어닐링 방법을 이용하여 
격자 변형에 따라 단계적 조절 가능한 유전상수 확인
□ 국내 연구진이 기존 반도체 소자의 소비전력 및 정보밀도를 획기적으
로 개선할 수 있는 기술을 개발했다. 차세대 전자소자인 멤커패시터 
및 멤컴퓨팅 시스템 개발에 기여할 것으로 기대된다.  
□ 지스트(광주과학기술원) 신소재공학부 이상한 교수 연구팀은 반도체의 
기본 소재로 활용되는 페로브스카이트 재료*의 격자** 변형을 이용하
여 유전상수***를 단계적으로 조절하는 데 성공했다.
  유전상수는 재료의 고유한 성질이지만 유전체 재료에서 이러한 유전
상수가 조절된다면, 메모리소자의 저장단계가 조절 가능하므로 기존 
반도체 소자의 소비전력 및 정보밀도를 획기적으로 개선할 수 있다.
  * 페로브스카이트 재료: ABO3의 분자구조가 규칙적으로 배열된 재료를 말하며, 대
부분 유전특성을 갖는 재료로써 일반적인 커패시터나 메모리 등 반도체의 중요 소
재로 활용되고 있다. 
  ** 격자: 원자나 분자, 이온이 일정한 패턴으로 모든 방향으로 규칙적으로 배열되어
있는 결정질 재료를 구성하는 최소 구성단위. 
지스트(광주과학기술원) 보도자료
http://www.gist.ac.kr 
보도 일시
배포 즉시 보도 부탁드립니다.
배포일
2021.11.01.(월)
보도자료
담당
홍보팀 조동선 팀장
062-715-2061
홍보팀 이나영 선임행정원 
062-715-2062
연구자 
신소재공학부 이상한 교수
062-715-2723
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  *** 유전상수 : 전기장이 주어졌을 때 물질이 전하를 상대적으로 어느 정도 저장할 
수 있는가를 나타내는 척도이다. 따라서 유전체 재료는 일반적으로 전자정보를 저
장하는 메모리 소자에 활용될 수 있다.  
□ 페로브스카이트(ABO3) 구조의 일부 유전재료에서 격자변형에 따라 상
유전성에서 강유전성으로 상전이 될 수 있음이 최근 이론계산 논문들
을 통해 보고되었다. 그 중에서도 SrMnO(SMO)는 격자 변형에 따라 
강유전성뿐만 아니라 강자성으로의 다중상변이가 가능한 재료이며, 이
러한 두 강성의 강력한 조합은 차세대 다중메모리소자로써 활용 가능
성이 높은 재료로 각광받아왔다. 
  그러나 기존의 선행연구들에서 이러한 재료를 실험적으로 구현하였을 
때, 격자 변형에 따른 큰 누설전류 및 구조적 결함 발생으로 인해 직
접적인 강유전성 및 유전상수의 확인이 어려웠다. 
□ 본 연구팀은 이러한 한계점을 극복하기 위해 선택적 산소어닐링 방법
을 고안하여 적용하였고, SMO 박막에서 최초로 격자인장에 따른 상유
전성에서 강유전성으로의 상변이 및 이에 따른 유전상수의 단계적 조
절이 가능함을 실험적으로 확인하였다.
 ∘ SMO 박막보다 더 큰 격자상수를 갖는 스트론튬 탄탈륨 알루미늄
(LSAT) 기판을 기반으로 펄스드 레이저 증착법을 이용하여 결정질 박
막을 형성시킴으로써 SMO의 격자인장을 유도하였다. 또한 박막의 두
께를 조절함으로써 격자 인장률을 최대 2%까지 단계적으로 조절하였다.
 ∘ 나아가 SMO 박막 위 SrRuO3 보호층을 준비하고 고온의 산소분위기에
서 어닐링 진행 후 보호층을 제거하는 선택적 산소어닐링 방법을 고안
하여 이를 통해 SMO 박막의 한계점인 격자변형에 따른 큰 누설전류 
및 구조적 결함을 해결하여 구조적으로 안정된 박막을 구현하였다. 
□ 이상한 교수는 “이번 연구성과는 차세대 전자소자로 각광받고 있지만 
아직 재료개발단계에 멈춰있는 멤커패시터 개발의 단초를 제공할 수 
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있다는데 의의가 있다”면서 “격자 인장에 따라 단계적으로 조절 가
능한 유전체 재료의 개발은 향후 차세대 반도체 소자 개발을 선도할 
것으로 기대된다”고 말했다.    
□ 지스트 이상한 교수가 주도하고 안현지 박사(제1저자)가 수행한 이번 
연구는 한국연구재단이 지원하는 미래소재디스커버리 사업의 지원을 
받아 수행되었으며, 재료분야 저명 학술지인 ‘NPG Asia Materials(NPG 
아시아 머터리얼즈, IF=10.481)’에 하이라이트 논문으로 선정되어 2021
년 10월 29일 온라인 게재되었다.  <끝>  
논문의 주요 내용
1. 논문명, 저자정보 
 - 저널명 : NPG Asia Materials (2020년 기준 IF=10.481)
 - 논문명 : Experimental realization of strain-induced room-temperature 
ferroelectricity in SrMnO3 films via selective oxygen annealing
 - 저자 정보 : 안현지 (제1저자, GIST), 이상한 (교신저자, GIST)  
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1.
페로브스카이트 재료
 ○ ABO3의 분자구조가 규칙적으로 배열된 재료를 말하며, 대부분 유전특성을 갖는 
재료로써 일반적인 커패시터나 메모리 등 반도체의 중요 소재로 활용되고 있다. 
2.
격자
○ 원자나 분자, 이온이 일정한 패턴으로 모든 방향으로 규칙적으로 배열되어있는 
결정질 재료를 구성하는 최소 구성단위.
 
3.
유전상수
○ 전기장이 주어졌을 때 물질이 전하를 상대적으로 어느 정도 저장할 수 있는가를 
나타내는 척도이다. 따라서 유전체 재료는 일반적으로 전자정보를 저장하는 
메모리 소자에 활용될 수 있다. 유전상수는 재료의 고유한 성질이지만, 유전체 
재료에서 이러한 유전상수의 조절된다면, 메모리소자의 저장단계가 조절 
가능하므로 기존 반도체 소자의 소비전력 및 정보밀도를 획기적으로 개선할 수 
있다.
용 어 설 명
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그 림 설 명
[그림1] 격자 인장으로 인해 조절된 강유전성 및 유전특성이 조절된 페로브스카이트 
재료가 차세대 메모리소자로 활용되었을 때의 모식도
* 가운데 확대된 하단 그림: 페로브스카이트 구조의 스트론튬 망간 옥사이드의 격자 인장으로 
인해 망간 양이온(붉은색)의 한 방향으로의 치우침으로 강유전성이 발생하는 과정.
[그림2] 본 연구팀이 제안한 격자 인장된 SrMnO3 박막의 누설전류 및 구조결함을 
효과적으로 줄일 수 있는 선택적 산소어닐링 방법의 모식도 
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[그림3] 선택적 산소어닐링 방법으로 제작된 SrMnO3 박막에서 격자인장에 따라 단
계적으로 조절된 강유전곡선 및 유전상수 결과. 기존 SrMnO3 박막을 기준으로 격자
가 최대 2% 늘어남에 따라 잔류분극은 16배, 유전상수는 20배 증가한다.